Das von Carl Zeiss geführte Verbundprojekt „Lithografie für den 22-Nanometer-Knoten" ist erfolgreich abgeschlossen. In diesem nationalen Projekt haben zwei Carl Zeiss Unternehmen und sechs weitere deutsche Firmen und Forschungseinrichtungen die EUV-Lithografie von der Grundlagenforschung zu einer voll einsetzbaren Technologie für die Serienproduktion weiterentwickelt. Durch die EUV-Lithografie tragen Carl Zeiss und seine Partner entscheidend zum Anspruch der Halbleiterindustrie bei, Mikrochips immer kleiner, effizienter, umweltfreundlicher und preiswerter zu machen. Das Projekt wurde vom Bundesministerium für Bildung und Forschung mit insgesamt rund 16 Millionen Euro gefördert. cd
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