Mit 12 Millionen Euro unterstützt das Thüringer Wissenschaftsministerium die Anschaffung einer neuen Lithographieanlage am Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena. Staatssekretär Carsten Feller überreichte heute den Förderbescheid. Die Anlage wird herausragende Grundlagenforschung auf dem Gebiet der Quantentechnologien ermöglichen. Auch Optiken z. B. zur Beobachtung des Klimawandels sind damit realisierbar. Die Anlage soll ab 2023 in Betrieb gehen und dann auch für gemeinsame Forschung mit dem Institut für Angewandte Physik der -Universität Jena und dem Leibniz-Institut für Photonische Technologien genutzt werden. dh/Foto: Fraunhofer IOF
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